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全部科目 > 大学试题 > 工学 > 电子与通信技术 > 微电子器件与IC设计基础

多项选择题

MOSFET的饱和区漏极电流ID随VDS的增大而略有增大,是由于什么原因引起的?()

    A.基区宽度调变效应
    B.阈电压的短沟道效应
    C.漏区静电场对沟道的反馈
    D.有效沟道调制效应

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